2、光催化臭氧化（O₃/UV）技术

    近几年来，臭氧由于其优良的杀菌消毒特性以及发生成本的不断下降，因此受到越来越多的水处理厂家的重视，使用臭氧作为杀菌消毒的单位也越来越多。然而，在游泳池中单一使用臭氧处理中还存在一定的缺陷：

    1)臭氧投加量大（臭氧投加量为0.6~1.0mg/l），成本相对较高；

    2)因为臭氧与水接触反应时间应满足CT≥1.6(C－臭氧投加量mg/l，T－臭氧与水接触反应所需要的时间min),为保证臭氧与水的接触时间，反应罐往往做的体积较大，成本也较高；

    3)为确保池水水面上的空气中臭氧浓度含量不超过0.10mg/l，要用活性炭吸附罐来分解水中剩余的臭氧，对于标准型游泳池来说，活性炭罐体积会很庞大，不仅增加了工程成本，后期维护费用也很高。

    光催化臭氧化（O₃/UV）是将臭氧与紫外光辐射（波长在180-300nm之间）相结合的一种高级氧化过程，它始于20世纪70年代，主要用于解决有毒害且无法生物降解物质的废水处理问题。80年代以来，研究范围扩大到饮用水的深度处理。这种方法由Garrison等人在治理含复杂铁氰盐废水中开发出来，他们发现该法对处理难氧化的物质十分有效，试验表明，将紫外光辐射与臭氧相结合，能使氧化速度提高10～104倍。

    光催化臭氧化（O₃/UV）技术现主要应用于如下方面：

    A、半导体产业:对TOC去除

    B、TFT-LCD产业:TOC,酸性物质的去除

    C、电镀产业:毁坏氰化物,EDTA

    D、采矿:去除氰化物

    E、木材加工:去酚

    F、石油化学制品:去除BTEX（苯、甲苯、乙苯和二甲笨）和汽油添加剂MTBE

    G、核能:去除TOC

    H、炼油厂:氯乙烯

    I、易爆的制造业:TNT

    J、药品制造业:去除TOC、内毒素