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国内首台化学机械抛光设备问世
 
慧聪网   2005年9月26日11时3分   信息来源:慧聪网水工业行业频道    

    国内首台具有自主知识产权的、适用于0.25μm/6~8英寸晶圆片平坦化工艺要求的化学机械抛光设备,日前在中国电子科技集团公司第48所研制成功。
  
  该设备的研制成功,填补了我国IC设备制造业0.25μm/6~8英寸晶圆片平坦化设备的空白,对于提升我国集成电路的整体研发水平和产业核心竞争力有着十分重要的现实意义。
 
 
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